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瀏覽:- 發(fā)布日期:2025-02-11 10:08:56【

蔡超,1李煬1李勁風(fēng)2張昭3張鑒清3

1. 寧夏大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院煤炭高效利用與綠色化工國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 銀川 750021

2. 中南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 長(zhǎng)沙 410083

3. 浙江大學(xué)化學(xué)系 杭州 310058

摘要

研究了2A97 Al-Li合金薄板不同時(shí)效后微觀組織、電位及在晶間腐蝕(IGC)介質(zhì)中的腐蝕特征。結(jié)果表明,隨著時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),2A97 Al-Li合金中時(shí)效析出T1相等,導(dǎo)致合金電位下降,與之對(duì)應(yīng)的合金腐蝕類型呈如下規(guī)律變化:孔蝕、晶間腐蝕(包括局部和全面晶間腐蝕)程度隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)呈先增加后降低的趨勢(shì)。同時(shí),相較T6態(tài)時(shí)效,T8態(tài)時(shí)效更加促進(jìn)T1相的生成,而合金電位下降速度也更快。電位越低,晶間腐蝕程度越小,代之以大面積孔蝕程度越高。以上述研究為基礎(chǔ),建立了合金腐蝕類型與電位之間的相關(guān)性,對(duì)于不同時(shí)效處理時(shí)快速評(píng)價(jià)Al-Li合金的晶間腐蝕敏感性具有可行性。

關(guān)鍵詞: Al-Li合金 ; 時(shí)效析出 ; 晶間腐蝕 ; 電位

Al-Li合金因其具有低密度、高比強(qiáng)度和高比模量等優(yōu)點(diǎn),經(jīng)過三代的發(fā)展已成為航天航空工業(yè)的理想材料[1,2]。其組成的主要特征是添加Mg、Ag、Zn等微合金化元素,如2195、2050、2195等Al-Li合金同時(shí)添加了Mg、Ag微合金化元素,而2099、2199 Al-Li合金則采用Mg、Zn復(fù)合微合金化[3,4]。研究[5,6]表明,采用Mg、Zn復(fù)合微合金化可以促進(jìn)時(shí)效強(qiáng)化相T1 (Al2CuLi)相形核,增加T1相析出密度,從而提高Al-Li合金的強(qiáng)度。另外,微合金化元素Zn進(jìn)入晶界T1相和T2 (Al6CuLi3)相,改變了晶界析出相成分,從而提高Al-Li合金耐腐蝕性能[7~9]。基于這兩方面的原理,我國(guó)自主研發(fā)了一種新型的Mg+Zn復(fù)合微合金化的2A97 Al-Li合金。

晶間腐蝕(IGC)性能是航空Al-Li合金需要著重考察的重點(diǎn)之一[10,11]。對(duì)于可熱處理強(qiáng)化鋁合金,時(shí)效方式不僅可以通過控制晶內(nèi)微觀組織來提高合金強(qiáng)度,同時(shí)還可以影響晶界結(jié)構(gòu)而改善抗晶間腐蝕性能[12,13]。因此,掌握Al-Li合金晶間腐蝕性能隨時(shí)效的變化規(guī)律對(duì)獲得優(yōu)良的綜合性能具有重要意義。目前國(guó)內(nèi)外已針對(duì)一些Al-Li合金時(shí)效過程中晶間腐蝕的變化規(guī)律進(jìn)行了部分研究[14~16],發(fā)現(xiàn)隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),其晶間腐蝕敏感性逐漸增加;而后隨時(shí)效時(shí)間進(jìn)一步延長(zhǎng),晶間腐蝕敏感性下降,而孔蝕程度增加;同時(shí),時(shí)效的進(jìn)行還伴隨合金電位發(fā)生規(guī)律性變化[17,18]

研究[19,20]發(fā)現(xiàn),7XXX系鋁合金中隨應(yīng)力腐蝕(SCC)敏感性下降,同時(shí)伴隨合金電導(dǎo)率增加,因此建立了采用電導(dǎo)率評(píng)定7XXX系鋁合金SCC性能的方法。而Al-Li合金時(shí)效通常伴隨電位的規(guī)律性變化,建立類似電位與晶間腐蝕敏感性的相關(guān)性,從而采用電位來進(jìn)行晶間腐蝕敏感性的快速評(píng)價(jià)意義重大。基于此,本工作對(duì)2A97 Al-Li合金時(shí)效時(shí)微觀組織、電位及晶間腐蝕的相關(guān)性進(jìn)行了系統(tǒng)研究。

實(shí)驗(yàn)方法

實(shí)驗(yàn)用2A97 Al-Li合金為1.5 mm厚度薄板,其化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù),%)為:Cu 3.7,Li 1.5,Mg 0.35,Zn 0.5,Mn 0.3,Zr 0.12,Al余量。薄板經(jīng)0.5 h固溶處理、淬火后分別進(jìn)行不同時(shí)間的T6 (165 ℃人工時(shí)效)及T8 (6%預(yù)變形+150 ℃人工時(shí)效)時(shí)效處理。

采用CHI660B電化學(xué)工作站進(jìn)行時(shí)效后合金在3.5%中性NaCl溶液(質(zhì)量分?jǐn)?shù))中的極化曲線和開路電位測(cè)試。測(cè)試時(shí)分別采用Pt電極和帶魯金毛細(xì)管的飽和甘汞電極(SCE)作為輔助電極和參比電極;極化曲線測(cè)試時(shí)的掃描速率為1 mV/s。

晶間腐蝕實(shí)驗(yàn)依據(jù)GB-7998-2005標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行。非腐蝕面用環(huán)氧樹脂密封;腐蝕表面采用砂紙機(jī)械打磨后拋光至表面光亮,而后在(35±2) ℃的腐蝕介質(zhì)(57 g/L NaCl+10 mL/L H2O2)中浸泡6 h。浸泡后樣品截面經(jīng)打磨拋光后在EC3金相顯微鏡(OM)下觀察,確定腐蝕類型并測(cè)量晶間腐蝕深度。采用Tecnai G2 20透射電鏡(TEM)進(jìn)行不同時(shí)效2A97 Al-Li合金的微觀組織觀察。TEM試樣先機(jī)械減薄至80 μm,再用25%HNO3+75%CH3OH (體積分?jǐn)?shù))雙噴液進(jìn)行雙噴減薄。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果

2.1 腐蝕行為

圖1所示為2A97 Al-Li合金薄板經(jīng)T6時(shí)效不同時(shí)間并經(jīng)腐蝕后典型的縱截面顯微組織形貌。當(dāng)時(shí)效時(shí)間為2 h時(shí),可以觀察到網(wǎng)格狀的晶間腐蝕形貌,但腐蝕主要發(fā)生于合金部分表面,定義為局部晶間腐蝕類型(local IGC,圖1a)。進(jìn)一步觀察可以發(fā)現(xiàn),晶粒內(nèi)部發(fā)生大量亞晶界腐蝕。時(shí)效4 h時(shí),合金表面發(fā)生晶間腐蝕面積增加,即由局部晶間腐蝕轉(zhuǎn)變?yōu)槿婢чg腐蝕(general IGC,圖1b),合金腐蝕程度進(jìn)一步加深。時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)至58 h時(shí),合金晶間腐蝕特征并不明顯,而變化為大面積孔蝕,但在孔蝕邊緣仍出現(xiàn)晶間腐蝕,其腐蝕類型可認(rèn)為是以孔蝕附帶局部晶間腐蝕(pitting with local IGC,圖1c)。時(shí)效時(shí)間進(jìn)一步延長(zhǎng),晶間腐蝕特征進(jìn)一步減弱,腐蝕類型可認(rèn)為是以孔蝕附帶輕微晶間腐蝕(pitting with slight IGC,圖1d)。

圖1

圖1   2A97 Al-Li合金T6時(shí)效不同時(shí)間并腐蝕后典型的縱截面腐蝕形貌

Fig.1   Typical sectional corrosion morphologies of 2A97 Al-Li alloy with T6 ageing after corrosion test for 2 h (a), 4 h (b), 58 h (c) and 120 h (d)


T6態(tài)時(shí)效不同時(shí)間并經(jīng)腐蝕實(shí)驗(yàn)后腐蝕類型和最大腐蝕深度統(tǒng)計(jì)如表1所示。可以看出,隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),腐蝕類型由孔蝕逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榫植烤чg腐蝕后至全面晶間腐蝕,進(jìn)而再反向轉(zhuǎn)變?yōu)榫植烤чg腐蝕。當(dāng)時(shí)效時(shí)間足夠長(zhǎng)時(shí),腐蝕類型轉(zhuǎn)化為以孔蝕為主伴隨輕微局部晶間腐蝕或輕微晶間腐蝕。當(dāng)合金出現(xiàn)晶間腐蝕時(shí),其最大晶間腐蝕深度隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)呈先增加后減小的規(guī)律。需要說明的是,當(dāng)腐蝕類型為以孔蝕為主附帶輕微晶間腐蝕時(shí),其晶間腐蝕深度未能找到合適的方法進(jìn)行統(tǒng)計(jì)。

表1   2A97 Al-Li合金T6態(tài)時(shí)效不同時(shí)間并腐蝕后腐蝕類型和最大腐蝕深度

Table 1  Corrosion type and maximum corrosion depth of 2A97 Al-Li alloy with T6 ageing after corrosion test for different time

Time / h Dominating corrosion mode Max. IGC depth / μm Max. pitting depth / μm
0 Pitting - 120
2 Local IGC 140 -
4 General IGC 238 -
6 General IGC 221 -
11.5 Local IGC with pitting 179 101
22 Local IGC with pitting 134 135
36 Pitting with local IGC 101 192
45 Pitting with local IGC 72 163
58 Pitting with local IGC 82 151
68 Pitting with slight IGC - 199
72 Pitting with slight IGC - 227
98 Pitting with slight IGC - 167
120 Pitting with slight IGC - 181

Note: IGC—intergranular corrosion

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2A97 Al-Li合金薄板T8態(tài)時(shí)效不同時(shí)間并腐蝕后典型的縱截面腐蝕形貌如圖2所示。時(shí)效2 h時(shí),僅能觀察到局部晶間腐蝕(圖2a)。時(shí)效4 h時(shí)為孔蝕附帶局部晶間腐蝕(圖2b)。進(jìn)一步延長(zhǎng)時(shí)效時(shí)間,合金主要表現(xiàn)為孔蝕,很難觀察到晶間腐蝕(圖2c和d)。T8時(shí)效不同時(shí)間并經(jīng)腐蝕實(shí)驗(yàn)后腐蝕類型和最大腐蝕深度如表2所示。固溶態(tài)時(shí)表現(xiàn)為孔蝕,沒有觀察到晶間腐蝕。時(shí)效1 h,合金以孔蝕為主,發(fā)生少量局部晶間腐蝕。時(shí)效2~4 h時(shí),合金發(fā)生孔蝕附帶局部晶間腐蝕。隨著時(shí)效時(shí)間的延長(zhǎng),合金主要為孔蝕,很難觀察到晶間腐蝕特征。

圖2

圖2   2A97 Al-Li合金薄板T8時(shí)效不同時(shí)間并腐蝕后典型的縱截面腐蝕形貌

Fig.2   Typical sectional corrosion morphologies of 2A97 Al-Li alloy with T8 ageing after corrosion test for 2 h (a), 4 h (b), 36 h (c) and 120 h (d)


表2   A97Al-Li合金T8時(shí)效不同時(shí)間并腐蝕后腐蝕類型和最大腐蝕深度

Table 2  Corrosion type and maximum corrosion depth of 2A97 Al-Li alloy with T8 ageing after corrosion test for different time

Time / h Dominating corrosion mode Max. IGC depth / μm Max. pitting depth / μm
0 Pitting - 125
1 Pitting and local IGC 60 122
2 Pitting and local IGC 90 120
4 Pitting with local IGC 115 125
10 Pitting - 98
22 Pitting - 107
28 Pitting - 100
36 Pitting - 107
48 Pitting - 127
60 Pitting - 110
72 Pitting - 140
120 Pitting - 100

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比較2種時(shí)效制度可以發(fā)現(xiàn),時(shí)效前預(yù)變形即T8時(shí)效可大幅度縮短出現(xiàn)晶間腐蝕特征的時(shí)效時(shí)間范圍。合金T6時(shí)效2~58 h時(shí)間范圍內(nèi),均可明顯觀察到晶間腐蝕形貌或孔蝕附帶局部晶間腐蝕形貌;而T8時(shí)效時(shí)僅1~4 h時(shí)間范圍內(nèi)觀察到局部晶間腐蝕或孔蝕附帶局部晶間腐蝕形貌,全部呈現(xiàn)為孔蝕類型。同時(shí),T8時(shí)效時(shí)晶間腐蝕和孔蝕深度大幅度降低。

2.2 電位變化特征

T6態(tài)時(shí)效不同時(shí)間2A97 Al-Li合金在3.5%NaCl溶液中的極化曲線如圖3所示。隨時(shí)效時(shí)間從4 h延長(zhǎng)至60 h,其自腐蝕電位逐漸負(fù)移;但進(jìn)一步時(shí)效后,其自腐蝕電位基本保持不變。

圖3

圖3   T6時(shí)效不同時(shí)間2A97 Al-Li合金薄板在3.5%NaCl溶液中的極化曲線

Fig.3   Polarization curves of 2A97 Al-Li alloy sheet with T6 ageing for different time


圖4所示為T6及T8態(tài)時(shí)效不同時(shí)間后2A97 Al-Li合金在3.5%NaCl溶液中的開路電位。隨時(shí)效時(shí)間變化,2A97 Al-Li合金開路電位呈現(xiàn)非常明顯的變化規(guī)律,即固溶處理后隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),開路電位順序下降;時(shí)效一定時(shí)間后,開路電位基本保持穩(wěn)定。然而相比T6態(tài)時(shí)效,T8態(tài)時(shí)效前期的開路電位下降速度更快,而且時(shí)效后期開路電位也略低。

圖4

圖4   T6和T8時(shí)效不同時(shí)間2A97 Al-Li合金薄板在3.5%NaCl溶液中的開路電位變化

Fig.4   Open circuit potential of 2A97 Al-Li alloy sheet with T6 and T8 ageing for different time in 3.5%NaCl solution


2.3 微觀組織

圖5所示為2A97 Al-Li合金T6態(tài)不同時(shí)間時(shí)效后的TEM像。時(shí)效4 h后,沿<100>Al方向觀察暗場(chǎng)(DF)像可發(fā)現(xiàn)大量由δ'相(Al3Li)和θ'相(Al2Cu)組成的δ'/θ'/δ'復(fù)合相粒子(圖5a);同時(shí),晶界部位可發(fā)現(xiàn)細(xì)小連續(xù)T1相(Al2CuLi),且有沿晶界無沉淀帶(PFZ)形成(圖5b)。當(dāng)時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)至12 h時(shí),沿<100>Al方向觀察DF像中仍然可發(fā)現(xiàn)大量δ'/θ'/δ'復(fù)合相粒子(圖5c);另外,沿<112>Al方向觀察明場(chǎng)(BF)像可發(fā)現(xiàn)晶內(nèi)和晶界均有T1相析出,但晶內(nèi)T1相較少,而晶界T1相明顯密集連續(xù),同時(shí)沿晶界形成較寬PFZ (圖5d)。當(dāng)時(shí)效時(shí)間進(jìn)一步延長(zhǎng)至60 h時(shí),沿<100>Al方向觀察DF像僅發(fā)現(xiàn)少量θ'相,基本未觀察到δ'相(圖5e);而沿<112>Al方向DF像中觀察到晶內(nèi)更多T1相(圖5f)。

圖5

圖5   T6態(tài)時(shí)效不同時(shí)間后2A97 Al-Li合金顯微組織的TEM像

Fig.5   TEM images of 2A97 Al-Li alloy with T6 ageing for 4 h (a, b), 12 h (c, d) and 60 h (e, f)

(a, c, e) <100>Al direction (b, d, f) <112>Al direction


圖6所示為2A97 Al-Li合金T8態(tài)不同時(shí)間時(shí)效后的TEM像。時(shí)效4 h后,沿<100>Al方向觀察晶內(nèi)DF像中發(fā)現(xiàn)一些互相垂直的θ'相,但未發(fā)現(xiàn)δ'相析出(圖6a);沿<112>Al方向觀察DF像中可發(fā)現(xiàn)晶內(nèi)有細(xì)小密集的T1相析出(圖6b)。當(dāng)時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)至16 h時(shí),沿<100>Al方向觀察DF像中θ'相變化不大(圖6c),但沿<112>Al方向觀察DF像中可發(fā)現(xiàn)晶內(nèi)析出T1相尺寸增加(圖6d),即T1相體積分?jǐn)?shù)增加,而且未發(fā)現(xiàn)沿晶界PFZ。當(dāng)時(shí)效時(shí)間進(jìn)一步延長(zhǎng)至40 h時(shí),晶內(nèi)θ'相(圖6e)和T1相(圖6f)變化不大。

圖6

圖6   T8態(tài)時(shí)效不同時(shí)間后2A97 Al-Li合金顯微組織的TEM像

Fig.6   TEM images of 2A97 Al-Li alloy with T8 ageing for 4 h (a, b), 16 h (c, d) and 40 h (e, f)

(a, c, e) <100>Al direction (b, d, f) <112>Al direction


綜上所述,相對(duì)T6態(tài)時(shí)效而言,T8態(tài)時(shí)效時(shí),δ'相析出受到抑制,而θ'相析出加速,特別是T1相形核密度顯著增加,其析出過程明顯加快。同時(shí)T8態(tài)時(shí)效可抑制沿晶界PFZ形成(圖6d)。

分析討論

根據(jù)圖4所示開路電位變化與圖5,6所示T6及T8時(shí)效時(shí)微觀組織演化可以發(fā)現(xiàn),2A97 Al-Li合金開路電位與時(shí)效析出相變化密切相關(guān)。T6態(tài)時(shí)效時(shí),與基體半共格的T1相形核密度較低,析出速率較慢,而更容易優(yōu)先析出與基體共格的δ'相。T8態(tài)時(shí)效時(shí),由于時(shí)效前預(yù)變形引入位錯(cuò)可以為半共格T1相和θ'相析出提供更多形核位置,從而促進(jìn)T1相和θ'相快速析出,并同時(shí)抑制δ'相析出[21,22],加快合金的時(shí)效響應(yīng)速率。綜合電位變化與析出相演化,可以發(fā)現(xiàn)當(dāng)2A97 Al-Li合金時(shí)效析出T1相越多,其開路電位越低。Proton等[15]在研究2050 Al-Li合金時(shí)效時(shí)T1相體積分?jǐn)?shù)變化及其電位變化的關(guān)系后,也發(fā)現(xiàn)相同現(xiàn)象。由于T8態(tài)時(shí)效促進(jìn)T1相快速析出,導(dǎo)致其時(shí)效前期2A97 Al-Li合金電位下降速度更快。這與合金中T1相電位低有關(guān),研究測(cè)定T1相在不含氧的0.6 mol/L NaCl溶液中和3.5%NaCl溶液中電位分別為-1.096和-1.076 V (vs SCE)[23,24],低于固溶體基體開路電位。

相比于晶內(nèi)面積,晶界面積非常小,因此合金開路電位主要反映合金晶內(nèi)電位的變化。而晶界析出相主要為T1相及T2相,其電位均低于基體電位[25]。時(shí)效不同時(shí)間導(dǎo)致晶內(nèi)電位降低,減小晶內(nèi)與晶界析出相電位差,并同時(shí)伴隨晶界析出相分布的改變,從而影響合金的晶間腐蝕敏感性。T6態(tài)時(shí)效時(shí)間較短時(shí),晶界陽極相(T1、T2)分布連續(xù),而且晶內(nèi)電位較高,晶界和晶內(nèi)電位差異較大,因而合金晶間腐蝕敏感性較高。當(dāng)時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),晶內(nèi)電位降低,晶界和晶內(nèi)電位差減小,晶界相陽極溶解的驅(qū)動(dòng)力下降,導(dǎo)致其晶間腐蝕敏感性降低。進(jìn)一步時(shí)效時(shí),一方面晶界析出相粗化不連續(xù);另一方面,晶內(nèi)電位進(jìn)一步降低,晶內(nèi)及晶界電位差已減小至足夠程度;同時(shí),晶內(nèi)T1相較多也導(dǎo)致基體晶粒的腐蝕[17]。這幾方面的原因?qū)е耇6態(tài)長(zhǎng)時(shí)間時(shí)效后,2A97 Al-Li合金容易產(chǎn)生以晶粒腐蝕為主要特征的孔蝕形貌。

相比T6態(tài)時(shí)效,T8態(tài)時(shí)效時(shí),晶內(nèi)T1相形核密度顯著增加,T1相生長(zhǎng)需Cu、Li原子的擴(kuò)散距離減小,因而T1相析出速率明顯加快;同時(shí),晶內(nèi)T1相增多,也導(dǎo)致晶界析出T1相等減少,即T1相分布更加均勻。上述原因?qū)е耇8態(tài)時(shí)效時(shí),隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),腐蝕類型演化速度明顯加快,僅在時(shí)效初期出現(xiàn)少量晶間腐蝕。

綜合表1和2所示不同時(shí)效時(shí)的腐蝕類型,以及圖4所示開路電位隨時(shí)效時(shí)間的變化規(guī)律,可以發(fā)現(xiàn)隨時(shí)效過程的進(jìn)行,2A97 Al-Li合金開路電位負(fù)移,相應(yīng)地晶間腐蝕減少,而更容易出現(xiàn)以晶粒整體腐蝕為特征的孔蝕。結(jié)合電位變化、時(shí)效過程及腐蝕特征,可以建立如圖7所示的電位與腐蝕類型的相關(guān)性示意圖。根據(jù)腐蝕類型及其對(duì)應(yīng)開路電位,可將開路電位分成4個(gè)區(qū)間。I區(qū)(Zone I)電位為-0.59~-0.63 V,對(duì)應(yīng)于時(shí)效早期,主要發(fā)生孔蝕或局部晶間腐蝕;II區(qū)(Zone II)電位為-0.63~ -0.65 V,對(duì)應(yīng)于時(shí)效前期或欠時(shí)效階段,主要發(fā)生全面晶間腐蝕;III區(qū)(Zone III)電位為-0.65~-0.70 V,主要發(fā)生孔蝕,并同時(shí)有局部晶間腐蝕發(fā)生;IV區(qū)(Zone IV)電位為-0.70 V以下,主要發(fā)生孔蝕,蝕孔邊緣可能有輕微晶間腐蝕。在1460 Al-Li合金時(shí)效時(shí)也存在類似相關(guān)性,只是電位分區(qū)有微小差別[14]。根據(jù)這一相關(guān)性關(guān)系,有可能采用開路電位來快速評(píng)價(jià)不同時(shí)效處理時(shí)Al-Li合金的腐蝕類型及晶間腐蝕敏感性。

圖7

圖7   腐蝕類型與電位的相關(guān)性示意圖

Fig.7   Phenomenological corrosion diagram relating OCP evolution to corrosion mode


結(jié)論

(1) 隨時(shí)效進(jìn)行,2A97 Al-Li合金易析出T1相等時(shí)效析出相,同時(shí)伴隨合金電位下降。相較T6態(tài)時(shí)效,T8態(tài)時(shí)效的T1相析出速率更快,電位下降速度明顯。

(2) 隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng),2A97 Al-Li合金腐蝕類型變化規(guī)律依次為:孔蝕、晶間腐蝕(局部晶間腐蝕至全面晶間腐蝕至局部晶間腐蝕)、孔蝕。晶間腐蝕程度隨時(shí)效時(shí)間延長(zhǎng)呈先增加而后降低的變化規(guī)律。

(3) 建立了腐蝕類型與合金電位的相關(guān)性。時(shí)效一定程度后,電位越低,晶間腐蝕程度越小,從而出現(xiàn)以整體晶粒腐蝕為特征的孔蝕。



來源--金屬學(xué)報(bào)

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