熱電材料是一種能將熱能與電能直接相互轉(zhuǎn)換的功能材料,其熱電轉(zhuǎn)換效率由材料的平均熱電優(yōu)值決定。高熱電優(yōu)值要求材料同時(shí)具有高的電傳輸性能和低的熱導(dǎo)率,即“電子晶體-聲子玻璃”特性。常用的能帶調(diào)控和缺陷設(shè)計(jì)雖然能優(yōu)化載流子有效質(zhì)量和晶格熱導(dǎo)率,但同時(shí)會(huì)造成載流子遷移率的降低,使得材料的平均熱電優(yōu)值提升有限。所以,保持高的載流子遷移率是提升材料在寬溫域內(nèi)平均熱電優(yōu)值的關(guān)鍵。本綜述總結(jié)了提高熱電材料載流子遷移率的方法,包括晶體缺陷調(diào)控和熱電耦合參數(shù)調(diào)控。其中,晶體缺陷調(diào)控包括制備晶體、對(duì)稱性調(diào)控和微缺陷調(diào)控策略;熱電耦合參數(shù)調(diào)控包括能帶對(duì)齊、調(diào)制摻雜和能帶銳化策略。同時(shí)討論了這些策略在多個(gè)熱電材料體系中的應(yīng)用,證明以上策略可以有效平衡載流子與聲子散射,協(xié)同調(diào)控載流子遷移率、有效質(zhì)量和載流子濃度之間的關(guān)系,在寬溫域內(nèi)獲得熱電優(yōu)值的大幅提升。概括表明,載流子遷移率優(yōu)化策略是一種提升熱電材料性能的有效手段,為開(kāi)發(fā)高效熱電材料提供了新的研究思路。
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熱電技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)熱能和電能的直接轉(zhuǎn)換,在廢熱回收發(fā)電和電子制冷領(lǐng)域有很大的應(yīng)用前景[1~3]。統(tǒng)計(jì)結(jié)果顯示,全世界60%以上的能源以廢熱的形式浪費(fèi)掉且主要集中在中低溫度范圍 (300~800 K),這使得熱電技術(shù)在中低溫廢熱發(fā)電領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景[4]。熱電技術(shù)的轉(zhuǎn)換效率一方面受熱電器件的界面電阻影響,另一方面由熱電材料本身的熱電無(wú)量綱優(yōu)值(dimensionless figure of merit,ZT)決定,其定義為ZT=σS2T/κtot(其中,σ、S、T和κtot分別表示電導(dǎo)率、Seebeck系數(shù)(又叫溫差電動(dòng)勢(shì))、熱力學(xué)溫度和總熱導(dǎo)率)[5~7]。若實(shí)現(xiàn)高的熱電轉(zhuǎn)換效率,需要平均ZT(ZTave,為ZT曲線所覆蓋的面積) 在工作溫區(qū)內(nèi)達(dá)到約2.0,甚至約3.0[8]。同時(shí),具有高ZTave的熱電材料在熱電器件中可以作為單級(jí)熱電臂替代目前廣泛研究的多級(jí)串聯(lián)集成熱電臂,能有效避免材料之間的界面電阻并提升器件的長(zhǎng)期服役穩(wěn)定性[9~11]。但是,目前熱電材料經(jīng)常追求最大ZT而忽略ZTave的提升,導(dǎo)致ZTave與理想目標(biāo)有很大差距[12]。所以提高材料寬溫域的熱電性能對(duì)于熱電技術(shù)的發(fā)展至關(guān)重要。
顯然,理想的高效熱電材料需要具備優(yōu)異的電傳輸性能,即大的Seebeck系數(shù)和高電導(dǎo)率,并同時(shí)具有低熱導(dǎo)率(“電子晶體-聲子玻璃”)[13~16]。熱電材料性能的優(yōu)化一方面要提升電傳輸性能,另一方面要降低晶格熱導(dǎo)率,然而熱電材料中載流子和聲子的傳輸相互影響,表現(xiàn)出強(qiáng)耦合傳輸特性,這使得提升熱電材料性能需要充分平衡各熱電參數(shù)之間的關(guān)系,最后獲得ZTave的提高[17,18]。當(dāng)利用半導(dǎo)體摻雜提高材料體系的載流子濃度(carrier density,n) 來(lái)優(yōu)化電性能時(shí),摻雜劑以及增大的載流子濃度會(huì)增強(qiáng)載流子的散射,從而降低載流子遷移率(carrier mobility,μ)[19,20];能帶簡(jiǎn)并[21~23]和態(tài)密度共振[24,25]等能帶結(jié)構(gòu)調(diào)控策略雖然能通過(guò)提升有效質(zhì)量(effective mass,m*) 來(lái)獲得較大的Seebeck系數(shù),但有效質(zhì)量變大的同時(shí)也會(huì)損傷載流子遷移率。利用缺陷結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在基體中引入大量的納米缺陷雖然能有效散射聲子降低晶格熱導(dǎo)率,但也會(huì)對(duì)載流子產(chǎn)生額外散射,造成載流子遷移率降低[26,27]。這些傳統(tǒng)的熱電材料優(yōu)化方法均會(huì)降低載流子遷移率、抑制體系的電傳輸性能,使得ZTave提升受限。
為了更進(jìn)一步提升熱電材料的寬溫域性能,需要在降低體系熱導(dǎo)率、優(yōu)化其他電性能參數(shù)的同時(shí)保持較高的載流子遷移率,以實(shí)現(xiàn)體系在寬溫域獲得高的電傳輸性能和ZT[26,28]。研究[29]表明,通過(guò)Te合金化可提高p型SnSe晶體的結(jié)構(gòu)對(duì)稱性,成功優(yōu)化載流子遷移率,Sn0.98Na0.02Se1-xTex的ZTave在300~793 K從約0.9 (x= 0) 提高到約1.6 (x= 2%);此外,通過(guò)在PbS內(nèi)固溶Sn可使基體導(dǎo)帶尖銳化并且位置下移,在降低載流子有效質(zhì)量的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了基體與第二相PbTe的導(dǎo)帶對(duì)齊,從而保持了較高的載流子遷移率,最終得到目前最佳的n型PbS性能,在300~923 K溫度范圍內(nèi)ZTave從純PbS的約0.48提高到Pb0.94Sn0.06S-8%PbTe的約0.72[30]。可見(jiàn),載流子遷移率的優(yōu)化策略可以歸納為2個(gè)方向:晶體缺陷調(diào)控和熱電耦合參數(shù)調(diào)控。一方面,可通過(guò)晶體缺陷調(diào)控實(shí)現(xiàn)載流子遷移率的大幅度提升[31]。如圖1a所示,在實(shí)際晶體中,會(huì)產(chǎn)生原子尺度的點(diǎn)缺陷、納米尺度的納米沉積相、微米尺度的晶界等各種尺度的缺陷,若采用制備晶體(此處“晶體”與文中多晶相對(duì),特指晶界密度較低、介于多晶和完美單晶之間的材料)、對(duì)稱性調(diào)控、微缺陷調(diào)控等方式合理調(diào)控晶體缺陷,可實(shí)現(xiàn)載流子遷移率的大幅度提升,進(jìn)而有效提高功率因子(power factor,PF = σS2) 和ZT,如圖1c和e所示。另一方面,通過(guò)調(diào)控?zé)犭婑詈蠀?shù)之間的復(fù)雜關(guān)系可相對(duì)小幅度提升載流子遷移率,如圖1b所示。在能帶調(diào)控中,可采取能帶對(duì)齊、調(diào)制摻雜、能帶銳化等策略,通過(guò)調(diào)整能帶位置以及帶形狀,來(lái)優(yōu)化載流子遷移率、載流子濃度和有效質(zhì)量之間的耦合關(guān)系,一定程度上提高載流子遷移率,實(shí)現(xiàn)對(duì)電性能和整體熱電性能的優(yōu)化,如圖1d和f所示。實(shí)驗(yàn)和理論計(jì)算均證明優(yōu)化熱電材料載流子遷移率是一種提升熱電材料性能的有效方法。
圖1載流子遷移率調(diào)控示意圖
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(a) schematic of crystal defect manipulations
(b) schematic of multiple coupling parameter manipulations (n—carrier density,μ—carrier mobility,m*—effective mass)
(c) power factor (PF) varies withnandμin crystal defect manipulations
(d)PFvaries withnandμin multiple coupling parameter manipulations
(e) figure of merit (ZT) varies withnandμin crystal defect manipulations
(f)ZTvaries withnandμin
Fig.1Strategies to optimize the carrier mobility
大量研究[32~36]表明,通過(guò)構(gòu)建點(diǎn)缺陷、納米沉積相、晶界等全尺度晶體缺陷,可以有效降低體系晶格熱導(dǎo)率,但當(dāng)晶體缺陷尺度與載流子自由程大小相當(dāng)時(shí)也會(huì)對(duì)其造成強(qiáng)烈散射,損傷載流子遷移率。而若采用制備晶體、調(diào)控對(duì)稱性、調(diào)控微缺陷等方式合理調(diào)控晶體缺陷尺寸,減少對(duì)載流子的散射,就可以實(shí)現(xiàn)載流子遷移率和熱導(dǎo)率的協(xié)同優(yōu)化,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)載流子遷移率的大幅度提升,有效提升PF和ZT。
在多晶熱電材料中,高密度的晶界會(huì)強(qiáng)烈散射載流子,損傷載流子遷移率和電導(dǎo)率,抑制熱電性能的提升[37~39]。由于晶體中晶界密度較低,因此可以在具有本征低熱導(dǎo)率的熱電材料體系中通過(guò)制備高質(zhì)量晶體來(lái)大幅度提高載流子遷移率,如圖2a所示,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)電傳輸性能的躍升,獲得超高熱電性能優(yōu)值。圖2b~d為SnSe和SnS熱電材料中晶體與多晶熱電性能的對(duì)比[40~45]。SnSe是一種有發(fā)展?jié)摿Φ谋菊鞯蜔釋?dǎo)熱電材料[46],通過(guò)Bridgman法制備的Na摻雜p型SnSe晶體在300 K下于b軸方向可獲得高載流子遷移率[41],約為237 cm2/(V·s),這大約是SnSe多晶在同等空穴濃度(4 × 1019cm-3)下的18倍[44],載流子遷移率的顯著提高使晶體獲得比多晶高20倍的室溫超高PF(約40 μW/(cm·K2)),300~773 K的ZTave
圖2制備晶體提升載流子遷移率與熱電性能
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(a) schematic of carrier scattering in polycrystals and crystals
(b) changes ofμwith temperatures (T) (The inset presents the measurement direction of polycrystals in Figs.2b-d; P—pressing direction)
(c) changes ofPFwithT
(d) changes ofZTwithT
Fig.2Strategy of crystal growth (Crystal: SnSe-Br[40], SnSe-Na[41], SnS-Na-Se[42]; Polycrystal: SnSe-Br[43], SnSe-Na[44], SnS-Sn vacancy[45])
通過(guò)對(duì)SnSe與SnS材料的熱電傳輸特性進(jìn)行總結(jié),提出可以通過(guò)制備晶體的方法去提升具有大帶寬和低對(duì)稱性半導(dǎo)體材料的熱電性能[2]。所以,對(duì)于BiCuSeO[49~51]、BiSbSe3[52~54]、Sb2Si2Te6[55,56]、BiSeX(X= Br或I)[57]等材料,也有望通過(guò)制備高質(zhì)量晶體而實(shí)現(xiàn)熱電性能的大幅提升。另外,由于晶體生長(zhǎng)高度依賴于設(shè)備且耗時(shí)長(zhǎng),在各向異性明顯的材料中,也可以通過(guò)熱變形技術(shù)獲得晶粒沿某一特定方向排列的高取向織構(gòu)多晶樣品,充分利用其各向異性在某些晶體方向上達(dá)到接近晶體的高載流子遷移率。此方法可被用于改善層狀材料的熱電性能,并已廣泛應(yīng)用于Bi2Te3[58,59]、SnSe[60,61]以及BiCuSeO[62]等各向異性熱電材料體系中。
晶體結(jié)構(gòu)決定了材料的熱電傳輸特性,低晶格對(duì)稱性的材料由于強(qiáng)非諧振性表現(xiàn)出本征低熱導(dǎo)特性,而晶格對(duì)稱性高的材料往往表現(xiàn)出較高的載流子遷移率而具有較好的電傳輸性能[63]。如果通過(guò)合金化來(lái)調(diào)節(jié)晶格對(duì)稱性,可以協(xié)同優(yōu)化載流子遷移率和晶格熱導(dǎo)率,從而在本征低熱導(dǎo)的材料中獲得較高的熱電性能,如圖3a所示。SnSe晶體由于具有超低熱導(dǎo)而表現(xiàn)出優(yōu)異的熱電性能和發(fā)展?jié)摿Γ芯?span style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; font-size: 10.5px; line-height: 0; position: relative; vertical-align: baseline; top: -0.5em;">[64,65]表明,當(dāng)溫度從室溫向高溫轉(zhuǎn)變,在約600 K時(shí)Se層內(nèi)距離d與層間距離D的值逐漸接近,低對(duì)稱性Pnma相開(kāi)始向高對(duì)稱性Cmcm相連續(xù)相變,其中高對(duì)稱性Cmcm相由于具有高載流子遷移率而表現(xiàn)出更高的熱電性能。通過(guò)Te合金化可以成功提高p型SnSe晶體的對(duì)稱性,進(jìn)一步得到優(yōu)于其他低對(duì)稱性SnSe晶體(單獨(dú)摻雜Na或Ag)的熱電性能[29,66]。如圖3b插圖所示[29],當(dāng)Te取代短Sn—Se鍵上的Se時(shí),鍵角1減小到88.38°,當(dāng)Te取代長(zhǎng)Sn—Se鍵上的Se時(shí),鍵角2增大到80.78°,趨近高對(duì)稱性Cmcm相的鍵角(約86.07°),這一結(jié)構(gòu)的改變證實(shí)了晶體對(duì)稱性的提高。如圖3b所示[29,64,66,67],Te合金化后獲得的高對(duì)稱性使其能夠保持大于260 cm2/(V·s)的高載流子遷移率,這導(dǎo)致其功率因子和ZT較其他低對(duì)稱性樣品大大提高。如圖3c和d所示[29],其在室溫可得到約55 μW/(cm·K2)的超高功率因子,在300~793 K能夠獲得約1.6的超高ZTave,最終獲得了約為18%的理論轉(zhuǎn)換效率。上述研究結(jié)果表明,晶格對(duì)稱性調(diào)控是一種提升低對(duì)稱性材料熱電性能的有效方法,這種方法可以應(yīng)用到其他熱電材料體系中。
圖3對(duì)稱性調(diào)控提升載流子遷移率與熱電性能
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(a) schematic of relationship between symmetry andμ(a, b, c—a, b, caxis;D—Se interlayer distance;d—Se intralayer distance)
(b)μas a function ofn
(c)PFas a function ofT
(d)ZTas a function ofT
Fig.3Strategy of crystal symmetry manipulation (SnSe-(SnTe[29]/Na[64,66]/Ag[66]/SnS[67]))
以PbQ(Q= Te、Se) 體系為例,其聲子的平均自由程(0.1~10 nm,亞納米尺度)遠(yuǎn)小于載流子的平均自由程(102~103nm,納米尺度)[71]。所以,如果在該體系中構(gòu)建亞納米尺度微缺陷(間隙原子或間隙原子團(tuán)簇等),如圖4a所示,由于其尺寸范圍與聲子平均自由程相當(dāng)?shù)h(yuǎn)低于載流子平均自由程,可以在阻礙聲子傳播的同時(shí)不影響載流子傳輸,在降低晶格熱導(dǎo)率的同時(shí)保持高載流子遷移率,而達(dá)到“電子通過(guò)-聲子阻隔”的效果。如圖4b所示,亞納米結(jié)構(gòu)的PbTe (-Cu[72]、Cu2Te[73])和PbSe (-Cu[74]、Zn[75])體系的載流子遷移率可以接近理論值,而納米結(jié)構(gòu)的PbTe (-Ag2Te[76]、CdTe[77]和InSb[78])和PbSe (-CdSe[79]、SrSe[80])體系中由于大尺寸納米結(jié)構(gòu)增強(qiáng)了載流子的散射,使得載流子遷移率大大降低。當(dāng)比較室溫載流子遷移率和晶格熱導(dǎo)率時(shí),如圖4c所示,亞納米結(jié)構(gòu)樣品通過(guò)平衡聲子和載流子傳輸而表現(xiàn)出優(yōu)越的性能。圖4d對(duì)納米結(jié)構(gòu)和亞納米結(jié)構(gòu)PbQ樣品室溫下的載流子遷移率與晶格熱導(dǎo)率之比(μ/κlat)進(jìn)行了對(duì)比,亞納米結(jié)構(gòu)的PbTe-Cu2Te、PbSe-Cu和PbSe-Zn中的μ/κlat比納米結(jié)構(gòu)的PbTe-Ag2Te、PbSe-CdSe和PbSe-SrSe中的高很多。在具有亞納米結(jié)構(gòu)的PbTe和PbSe體系中,高的載流子遷移率可以在整個(gè)溫度范圍內(nèi)(尤其是低溫區(qū))明顯提高功率因子,如圖4e所示,PbTe體系中,亞納米結(jié)構(gòu)的PbTe-Cu2Te體系的最大功率因子出現(xiàn)在423 K (約為37 μW/(cm·K2)),而納米結(jié)構(gòu)的PbTe-Ag2Te體系在775 K時(shí)的最大功率因子仍小于20 μW/(cm·K2),PbSe體系中也可以觀察到類似的載流子輸運(yùn)特性。在全工作溫度范圍內(nèi),亞納米結(jié)構(gòu)的存在使其ZT明顯高于納米結(jié)構(gòu)樣品,PbTe-Cu2Te和PbSe-Cu的ZTave約為1.0,如圖4f所示。在PbQ基體系中,亞納米結(jié)構(gòu)能很好地保持載流子遷移率,同時(shí)能散射聲子,最終顯著提高熱電性能,此優(yōu)化策略也可以推廣應(yīng)用到其他聲子與載流子自由程差異明顯的熱電材料體系中。
圖4微缺陷調(diào)控提升載流子遷移率與熱電性能
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(a) schematic of point defects scattering to carriers and phonons
(b)μas a function ofn
(c)μas a function of the reciprocal of lattice thermal conductivity (1 /κlat)
(d) comparisons ofμ/κlat
(e)PFas a function ofT
(f)ZTas a function ofT(ZTave—average figure of merit)
Fig.4Strategy of point defect manipulation (PbTe-(Cu[72]/Cu2Te[73]/Ag2Te[76]/CdTe[77]/InSb[78]), PbSe-(Cu[74]/Zn[75]/CdSe[79]/SrSe[80]))
載流子遷移率、載流子濃度和有效質(zhì)量是決定熱電材料中電傳輸性能的關(guān)鍵參數(shù)。由于這3個(gè)電性能參數(shù)相互耦合,所以需要平衡它們之間的關(guān)系,保持基體高的載流子遷移率才能實(shí)現(xiàn)電傳輸性能的優(yōu)化。通過(guò)熱電耦合參數(shù)調(diào)控優(yōu)化載流子遷移率的策略主要包括:能帶對(duì)齊、調(diào)制摻雜和能帶銳化。能帶對(duì)齊策略中,通過(guò)調(diào)整基體與第二相之間的能帶差異來(lái)降低其對(duì)載流子的散射;調(diào)制摻雜策略中,載流子濃度和遷移率實(shí)現(xiàn)協(xié)同優(yōu)化;能帶銳化策略平衡了載流子遷移率和有效質(zhì)量之間的關(guān)系,進(jìn)而保持高的載流子遷移率,優(yōu)化電傳輸性能。
當(dāng)引入第二相來(lái)降低晶格熱導(dǎo)時(shí),基體和第二相能帶之間的能量位置可能存在失配,這種能量失配也會(huì)對(duì)載流子造成額外的散射,對(duì)載流子遷移率產(chǎn)生不利影響[78,81,82]。能帶對(duì)齊策略通過(guò)合理調(diào)控基體相與第二相的能帶能量,使兩相間的能帶差最小化甚至實(shí)現(xiàn)能帶對(duì)齊,進(jìn)而最大程度減小基體相與第二相之間的界面能壘對(duì)載流子的散射,保持較高載流子遷移率和電傳輸性能[8]。對(duì)于主要靠空穴傳輸?shù)膒型材料,如圖5a所示,當(dāng)2個(gè)價(jià)帶頂能量接近或?qū)R時(shí),空穴在系統(tǒng)中的輸運(yùn)將更加容易;而對(duì)于主要靠電子傳輸?shù)膎型材料,如果基體的導(dǎo)帶與第二相的導(dǎo)帶能量接近,則電子輸運(yùn)所受阻礙也會(huì)更小[16]。
圖5能帶能量對(duì)齊提升載流子遷移率與熱電性能
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(b)μas a function ofn
(c) quality factor (B) as a function ofT
(d)ZTas a function ofT
Fig.5Strategy of band alignment in energy (p-type: PbS-(CdS[8]/Ag2S[83]/CaS[8]/SrS[8]), n-type: PbS-(PbTe[30]/Sb2S3[84]/Pb(Pb, Sb)S2[85])(a) schematic of the relationship between band alignment and carrier mobility (C—conduction band, V—valence band,
在PbS體系中,通過(guò)復(fù)合與基體價(jià)帶差僅約為0.13 eV (0 K溫度下)的CdS第二相實(shí)現(xiàn)了p型PbS中的價(jià)帶對(duì)齊[8];而通過(guò)調(diào)整n型Pb1-xSnxS中Sn的含量使基體的導(dǎo)帶下移,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了與PbTe第二相的導(dǎo)帶對(duì)齊[30]。如圖5b所示[8,30,83~85],能帶對(duì)齊后的p型與n型樣品的載流子遷移率明顯提高,相比于沒(méi)有能帶對(duì)齊效果的樣品更接近理論載流子遷移率。能帶對(duì)齊樣品中的高載流子遷移率使其全工作溫度的品質(zhì)因子(quality factorB,B= 9μw/κlat(T/ 300)5/2,其中μw表示加權(quán)遷移率(weighted mobility),可通過(guò)電導(dǎo)率和Seebeck系數(shù)求得[54])和ZT明顯優(yōu)于普通固溶的樣品(p型的PbS-CaS和n型的PbS-Sb2S3)[8,84],能帶對(duì)齊的p型和n型PbS的最高品質(zhì)因子達(dá)到約0.8,最大ZT達(dá)到約1.3,如圖5c和d所示。n型PbS體系中,300~923 K溫度范圍內(nèi)的ZTave在沒(méi)有能帶對(duì)齊的PbS-Sb2S3中約為0.52,而在實(shí)現(xiàn)了能帶對(duì)齊后可以提高到約0.72。以上研究結(jié)果表明,利用能帶對(duì)齊策略可以實(shí)現(xiàn)載流子與聲子的協(xié)同優(yōu)化,促進(jìn)熱電性能的更大提升。
摻雜通常是通過(guò)增加載流子濃度來(lái)提高電導(dǎo)率的有效方法[86],然而高含量的摻雜劑帶來(lái)的電離雜質(zhì)會(huì)對(duì)載流子造成嚴(yán)重散射,而損傷載流子遷移率,甚至導(dǎo)致載流子遷移率驟降,嚴(yán)重限制了電性能的提高[87]。調(diào)制摻雜(modulation doping,MD) 一直被廣泛應(yīng)用于二維電子氣薄膜器件中以提高載流子遷移率[88],從而提高電導(dǎo)率。這種策略也被成功應(yīng)用于熱電領(lǐng)域來(lái)提高SiGe基塊體復(fù)合熱電材料的電性能[89~91]。如圖6a所示,調(diào)制摻雜可通過(guò)復(fù)合未摻雜組分和重?fù)诫s組分實(shí)現(xiàn)。未摻雜組分的載流子濃度低,F(xiàn)ermi能級(jí)位于禁帶中間位置;重?fù)诫s組分的載流子濃度高,F(xiàn)ermi能級(jí)深入導(dǎo)帶(n型)或價(jià)帶(p型)[92],當(dāng)將其按照一定比例混合時(shí),由于Fermi能級(jí)位置梯度,載流子會(huì)自動(dòng)從重?fù)诫s相向未摻雜相擴(kuò)散,而未摻雜相由于電離散射中心較少而載流子遷移率較高,從而實(shí)現(xiàn)載流子濃度與載流子遷移率的協(xié)同優(yōu)化。
繼SiGe基材料之后,調(diào)制摻雜策略又在BiCuSeO基和BiAgSeS基體系中得到成功驗(yàn)證。純BiCuSeO與Bi1-xBaxCuSeO復(fù)合而成的調(diào)制摻雜樣品與同成分、均一摻雜的樣品相比[90],保持了相近的載流子濃度而載流子遷移率增加了近2倍,如圖6b所示,這使其全工作溫度范圍內(nèi)的熱電性能得到極大改善,最大功率因子提高了160%,約為10 μW/(cm·K2),在923 K獲得了最大ZT(約為1.4),300~923 K的ZTave從約0.61提升到約0.71,如圖6c和d所示。在BiAgSeS體系中采用調(diào)制摻雜策略時(shí)載流子遷移率也得到顯著提高[93],同樣獲得了比均一摻雜樣品更高的功率因子和ZT,最高PF和最大ZT分別約為5.8 μW/(cm·K2)和1.23,300~823 K下的ZTave從約0.36提高到約0.70。實(shí)驗(yàn)證明,在載流子遷移率較低的材料體系中,調(diào)制摻雜策略是提高其載流子遷移率而優(yōu)化其熱電性能的可行方法。
圖7能帶銳化提升載流子遷移率與熱電性能
(a) schematic of the relationship between band sharpening and carrier mobility
(b)μas a function ofn(c)Bas a function ofT(d)ZTas a function ofT
Fig.7Strategy of band sharpening ((Pb1-xSnx)(Te1-xSex)[98], PbTe-(In-I[99]/Pb-Sb[100]/Ag2Te[101]/Pb vacancy[102]), Pb1-xSnxS[30], PbS-(Sb-Cu[103]/Bi2S3-PbCl2[84]/Sb2S3-PbCl2[84]/Sb[85]))
在PbQ(Q= Te、S)體系中,研究[30,98]發(fā)現(xiàn),通過(guò)Sn固溶可以調(diào)整體系中的導(dǎo)帶(價(jià)帶)形狀,故可以通過(guò)改變Sn的固溶量使PbTe和PbS體系的導(dǎo)帶變尖銳,降低基體的載流子有效質(zhì)量,從而保持較高的載流子遷移率[30,84,85,98~103],如圖7b所示。通過(guò)獲得最優(yōu)載流子遷移率和有效質(zhì)量的關(guān)系,使基體獲得最大品質(zhì)因子,最終可提升材料寬溫域的熱電性能。如圖7c和d所示,能帶銳化策略可在PbTe[98]和PbS[30]體系中使其最高品質(zhì)因子和ZTave提升> 130%,PbTe體系中300~875 K的ZTave從約0.60增大到約0.80,PbS體系中300~925 K的ZTave從約0.48增大到約0.60。上述研究在能帶對(duì)齊策略的指導(dǎo)下調(diào)控能帶結(jié)構(gòu),可為其他材料體系提高熱電性能提供新思路。
優(yōu)化載流子遷移率是提升寬溫域熱電性能的有效手段,本綜述從晶體缺陷調(diào)控和熱電耦合參數(shù)調(diào)控2個(gè)角度總結(jié)歸納了優(yōu)化載流子遷移率的策略。載流子遷移率的提高,可以顯著將最佳電傳輸性能移向中低溫區(qū),從而有效地將中低溫?zé)嵩崔D(zhuǎn)化成電能。載流子遷移率優(yōu)化策略在多種熱電材料體系得到了成功應(yīng)用,充分證明其有效性,可能是實(shí)現(xiàn)室溫附近最大ZT> 2.0的一種有效手段。通過(guò)把載流子遷移率優(yōu)化策略推廣應(yīng)用于更多的熱電材料體系,有望開(kāi)發(fā)出可用于單級(jí)熱電臂的新型高效寬溫域熱電材料,進(jìn)而解決多級(jí)熱電臂器件中的界面老化問(wèn)題,提高熱電器件的轉(zhuǎn)換效率和服役穩(wěn)定性,推動(dòng)熱電器件的成果轉(zhuǎn)化與實(shí)際應(yīng)用。更多關(guān)于載流子優(yōu)化策略的理論和實(shí)驗(yàn)方法值得進(jìn)一步開(kāi)發(fā)和系統(tǒng)深入研究,以便豐富和完善對(duì)載流子傳輸特性的認(rèn)識(shí),實(shí)現(xiàn)在寬溫域內(nèi)平均熱電優(yōu)值的突破。同時(shí),在熱電材料中引入磁、光、聲等多個(gè)自由度的交叉學(xué)科調(diào)控,或許能夠解耦電聲輸運(yùn)中復(fù)雜的矛盾關(guān)系,進(jìn)而推動(dòng)熱電材料理論體系的發(fā)展。
圖1
1晶體缺陷調(diào)控
1.1制備晶體
圖2
1.2對(duì)稱性調(diào)控
圖3
1.3微缺陷調(diào)控
圖4
2熱電耦合參數(shù)調(diào)控
2.1能帶對(duì)齊
圖5
2.2調(diào)制摻雜
圖6
2.3能帶銳化
圖7
3結(jié)論與展望
來(lái)源--金屬學(xué)報(bào)